我们能为您解决以下问题


专注等离子表面处理,攻克精密制程痛点

纳米级精密清洁

纳米级精密清洁

干式等离子清洗,高效去除表面有机物、氧化层,实现微纳米级洁净;无残留、无损伤、无污染,适配各行业精密制程。
表面活化改性

表面活化改性

重构材料表面分子结构,提升表面能与润湿性,全面解决粘接、点胶、印刷、喷涂、覆膜附着差、脱胶掉漆等问题。
微观蚀刻·表层精细处理

微观蚀刻·表层精细处理

可作用于电子、半导体、晶圆、PCB、塑胶、玻璃、陶瓷、复合材料等各类材质,精准微蚀刻、表面微粗化,强化界面结合力,满足高端精密制造要求。
提升亲水强化粘接

提升亲水强化粘接

改善各类基材疏水特性,大幅提升胶水、油墨、涂层、镀层附着力,提升产品良率,降低不良损耗。

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消除表面瑕疵,提升产品生产良率

喷射等离子清洗机

喷射等离子清洗机(又称大气喷射式等离子清洗机)采用喷头将等离子体射流直接喷射到待处理表面,利用等离子体中的活性粒子与材料表面发生物理和化学反应,实现高效清洁、活化和表面改性。根据喷头是否旋转,可分为直喷式和旋转喷射式两种。喷射出的等离子体流为中性,能显著提高材料表面的粘性及焊接强度。-

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在线式大气等离子处理设备

在线式大气等离子处理设备是在大气环境下工作的表面处理设备,通过高压放电将工艺气体(通常为压缩空气)电离形成等离子体射流喷射到材料表面,实现快速清洁、活化与表面改性。该技术是清洁、活化或镀膜塑料、金属、玻璃、再生材料或复合材料的最有效的等离子工艺之一,凭借免真空操作、连续化生产等特性,已成为电子、医疗、包装等领域的核心工艺设备。

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在线式大气等离子处理设备

在线式大气等离子处理设备是在大气环境下工作的表面处理设备,通过高压放电将工艺气体(通常为压缩空气)电离形成等离子体射流喷射到材料表面,实现快速清洁、活化与表面改性。该技术是清洁、活化或镀膜塑料、金属、玻璃、再生材料或复合材料的最有效的等离子工艺之一,凭借免真空操作、连续化生产等特性,已成为电子、医疗、包装等领域的核心工艺设备。

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大气等离子处理设备

大气等离子处理设备(也称为常压等离子清洗机)是在大气环境下工作的表面处理设备,通过高压放电将工艺气体(通常为压缩空气)电离形成等离子体射流喷射到材料表面,实现快速清洁、活化与表面改性。该技术是清洁、活化或镀膜塑料、金属、玻璃、再生材料或复合材料的最有效的等离子工艺之一,凭借免真空操作、连续化生产等特性,已成为电子、医疗、包装等领域的核心工艺设备。

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三轴平台等离子处理设备

三轴平台等离子处理设备是一款专为高精度、自动化表面处理需求设计的专业设备,集成全自动XY平台控制系统,通过可编程控制处理路径,能够实现大面积、高精度的表面清洗、活化及改性处理任务,非常适合大规模生产中的精细作业。

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低温等离子清洗机

低温等离子清洗机是利用射频电源在真空或大气条件下产生低温等离子体,通过活性粒子(离子、电子、自由基等)对材料表面进行物理轰击和化学反应,实现清洗、活化、刻蚀及表面改性的设备。其处理温度可低至40℃左右,能有效保护热敏材料不受损伤,同时等离子体可进入超细狭缝进行全方位清洗。

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XY全自动宽幅等离子清洗机

XY全自动宽幅等离子清洗机是一款专为高精度、自动化表面处理需求设计的专业设备,集成全自动XY平台控制系统,通过可编程控制处理路径,能够实现大面积、高精度的表面清洗、活化及改性处理任务,非常适合大规模生产中的精细作业。

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氩气宽幅等离子清洗机

氩气宽幅等离子清洗机以氩气(Ar)作为主要工作气体,通常辅以氧气或氮气作为反应气体,通过RF射频(13.56MHz)激发产生辉光式等离子体幕,直接作用于材料表面进行大面积均匀清洗与活化处理。根据工艺需要,可选用氩气/氧气组合用于非金属材料高效处理,或氩气/氮气组合用于含金属区域的处理,也可只采用纯氩气。

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宽幅等离子处理设备(氮气)

氮气宽幅等离子清洗机以氮气(N₂)或压缩空气(CDA)作为工艺气体,通过产生宽幅等离子体对材料表面进行大面积、高效率的清洗与活化处理。该设备是大气等离子清洗机中清洗能力最强的类型之一,可配合自动化线进行在线清洗,并可通过串口进行远程设备控制。

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宽幅等离子处理设备(氬氧)

宽幅等离子处理设备(氬氧)以氬氧(Ar)作为主要工作气体,通常辅以氧气或氮气作为反应气体,通过RF射频(13.56MHz)激发产生辉光式等离子体幕,直接作用于材料表面进行大面积均匀清洗与活化处理。根据工艺需要,可选用氩气/氧气组合用于非金属材料高效处理,或氩气/氮气组合用于含金属区域的处理,也可只采用纯氩气。

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在线真空等离子清洗机

在线真空等离子清洗机是在成熟等离子体清洗工艺技术和设备制造基础上,增加上下料、物料传输等自动化功能,实现从清洗到下料全过程的自动化连续处理。设备主要包括上下料系统、物料传输系统、等离子清洗系统、视觉监控系统等部分,通过将等离子技术与自动化产线深度融合,实现表面处理的全流程闭环控制,是半导体、电子组装、医疗器械等行业的关键设备。

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腔体式真空等离子清洗机

腔体式真空等离子清洗机是指在密闭真空腔体内进行等离子处理的设备,利用高频发生器在真空条件下将工艺气体电离形成等离子体,对被处理工件表面进行物理轰击与化学反应,实现清洗、活化、刻蚀、涂覆等多种表面处理功能。其显著特点为高均匀性辉光放电,材料处理温度接近室温,是目前应用最为广泛的等离子清洗设备类型之一。

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大型真空等离子清洗机

大型真空等离子清洗机具有超大型真空处理腔室(可达数百升至数千升级别),适合大尺寸产品或大批量产品的批次式等离子处理。通过物理轰击与化学反应双重作用,实现材料表面的高效清洗、活化、刻蚀与改性。超大的处理空间显著提升了处理产能。

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小型真空等离子清洗机

小型真空等离子清洗机是台式或紧凑型设计的真空等离子处理设备,体积小巧、操作简便,主要用于实验室及科研场景下的小批量、高精度表面处理,具有清洗、灰化、刻蚀、表面活化、键合、去胶等多种功能。采用真空不锈钢腔体,频率13.56MHz,功率通常在500W左右。

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60-120L真空等离子清洗机

60-120L真空等离子清洗机属于中型真空等离子处理设备,腔体容量为60升至120升,采用不锈钢或铝合金真空腔体,利用射频电源(通常为13.56MHz)将工艺气体(如氧气、氩气等)电离生成高活性等离子体,对材料表面进行全方位清洗与活化。通过精准控制等离子体能量与材料相互作用,处理温度控制在30-60℃,避免热敏材料变形。

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宫格式真空等离子处理设备

宫格式真空等离子处理设备属于中型真空等离子处理设备,腔体容量为60升至120升,采用不锈钢或铝合金真空腔体,利用射频电源(通常为13.56MHz)将工艺气体(如氧气、氩气等)电离生成高活性等离子体,对材料表面进行全方位清洗与活化。通过精准控制等离子体能量与材料相互作用,处理温度控制在30-60℃,避免热敏材料变形。

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真空等离子处理设备

真空等离子处理设备属于中型真空等离子处理设备,腔体容量为60升至120升,采用不锈钢或铝合金真空腔体,利用射频电源(通常为13.56MHz)将工艺气体(如氧气、氩气等)电离生成高活性等离子体,对材料表面进行全方位清洗与活化。通过精准控制等离子体能量与材料相互作用,处理温度控制在30-60℃,避免热敏材料变形。

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真空等离子处理设备

真空等离子处理设备是台式或紧凑型设计的真空等离子处理设备,体积小巧、操作简便,主要用于实验室及科研场景下的小批量、高精度表面处理,具有清洗、灰化、刻蚀、表面活化、键合、去胶等多种功能。采用真空不锈钢腔体,频率13.56MHz,功率通常在500W左右。

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在线式真空等离子清洗机

在线真空等离子清洗机是在成熟等离子体清洗工艺技术和设备制造基础上,增加上下料、物料传输等自动化功能,实现从清洗到下料全过程的自动化连续处理。设备主要包括上下料系统、物料传输系统、等离子清洗系统、视觉监控系统等部分,通过将等离子技术与自动化产线深度融合,实现表面处理的全流程闭环控制,是半导体、电子组装、医疗器械等行业的关键设备。

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旋转式Plasma清洗机

旋转式等离子清洗机采用旋转喷嘴技术,在等离子体处理过程中通过喷头旋转扩大处理面积,使等离子体与物体表面的瞬时接触温度控制在较低水平(约70℃左右),实现对材料表面均匀、高效的清洗与活化处理,可定做成各类流水线等离子清洗设备。根据不同的旋转速度和处理直径,旋转喷枪可实现高达50米/分钟的处理速度。

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Plasma表面处理

等离子表面处理(等离子表面处理)是利用等离子体中的活性粒子对材料表面进行清洗、活化、镀膜等改性的先进表面工程工艺。通过改变材料表面的化学、物理及机械性能,可提高附着力、耐腐蚀性、耐磨性等,适用于塑料、金属、陶瓷、玻璃、复合材料等多种基材。自1995年Openair-Plasma技术问世以来,已重塑了汽车、航空航天、电子、医疗、包装和电池生产等行业的制造流程。

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自动三轴Plasma处理设备

自动三轴plasma处理设备是利用射频电源在真空或大气条件下产生低温等离子体,通过活性粒子(离子、电子、自由基等)对材料表面进行物理轰击和化学反应,实现清洗、活化、刻蚀及表面改性的设备。其处理温度可低至40℃左右,能有效保护热敏材料不受损伤,同时等离子体可进入超细狭缝进行全方位清洗。

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Plasma清洗机

等离子清洗机(又称等离子清洁机、等离子表面处理仪)是利用等离子体(物质第四态)对材料表面进行清洗和改性的高科技设备。它通过电离气体生成高活性粒子(离子、电子、自由基等),精准去除材料表面0.1nm级污染物(如金属离子、有机残留),洁净度可达ISO Class 1标准,较传统湿法清洗精度提升50倍。该设备适用于各类基片、粉体或颗粒状材料的低温等离子表层改性处理。

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常压Plasma清洗机

常压Plasma清洗机是在大气环境下工作的表面处理设备,通过高压放电将工艺气体(通常为压缩空气)电离形成等离子体射流喷射到材料表面,实现快速清洁、活化与表面改性。该技术是清洁、活化或镀膜塑料、金属、玻璃、再生材料或复合材料的最有效的等离子工艺之一,凭借免真空操作、连续化生产等特性,已成为电子、医疗、包装等领域的核心工艺设备。

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微波等离子清洗机

微波等离子清洗机是以微波(通常为2.45GHz)作为激发能源,在真空条件下产生高密度、高均匀性等离子体,对材料表面进行微观净化、活化、改性、去氧化、刻蚀、去胶、沉积等多种处理的设备,兼具物理和化学清洗方式的优势。微波往往比射频更快,产生的灰化率也更高,非常高效且对衬底损伤低。

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等离子蚀刻机

等离子蚀刻机(又称等离子刻蚀机)是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是通过电场使暴露在电子区域的气体形成等离子体,电离气体原子在电场加速下释放足够能量,对材料表面进行定向轰击和化学反应,从而实现精确的材料去除和图形转移。包括电容耦合等离子体(CCP)和电感耦合等离子体(ICP)等多种类型,支持从离子刻蚀到自由基刻蚀的广泛工艺控制。

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干冰等离子清洗机

“干冰等离子清洗机”目前并非一个成熟的独立产品品类。市场上与之相关的清洗技术主要分为两类独立技术: 一是干冰清洗技术,利用干冰颗粒(固态二氧化碳,约-78℃)在高压气流中加速撞击物体表面,通过热力学冲击、剥离和升华作用清除污染物,全程无化学试剂、无二次废料; 二是等离子清洗技术,利用电离气体产生的高活性等离子体进行表面清洁和改性。目前主要的技术融合方式为“干冰清洗+等离子活化”的组合工艺路线,即先以干冰清洗去除表面宏观污染物,再以等离子体进行微观活化,两种技术协同作用,实现高效清洁与表面能提升。

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干冰清洗机

干冰清洗机是以固态二氧化碳(干冰)为清洗介质,经高压空气高速喷射利用低温脆化、动能冲击、升华微爆三重物理作用,实现无损无残留清洁的环保工业设备。

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USC干式除尘

USC干式除尘(Ultrasonic Dry Cleaner,又称干式超声波除尘清洗机)是一种创新的非接触式干法除尘系统。它通过产生超声波气流使材料表面的尘粒振动松脱,超声波可打破空气粘滞层,彻底清除极小颗粒(1.6μm以上)的灰尘,然后通过真空气流将尘粒收集,实现无接触、无损伤的高效除尘。-该设备主要应用于对清洁度要求极高的精密制造业。

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超声波干式除尘设备

超声波干式清洗是一种无需水或化学溶剂,完全依靠气体介质(通常是洁净空气)与超声波物理作用,实现非接触式去除表面微尘颗粒的精密清洗技术。

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接触角测量仪

接触角测量仪(又称水滴角测量仪)是一种用于固体表面润湿性的精密仪器,通过测量液滴在固体表面形成的接触角来定量评估材料表面的亲水性/疏水性、表面能及清洁度。接触角作为表征固体表面润湿性的关键参数,其测量精度直接影响材料清洁度评估、涂层性能验证及生物相容性测试等关键工艺。

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3C/电子元件

3C/电子元件

5G/6G光通讯

5G/6G光通讯

FPC/PCB

FPC/PCB

LED

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半导体/微电子

半导体/微电子

纺织新材料

纺织新材料

航天/军工

航天/军工

汽车智能制造

汽车智能制造

生物/医疗

生物/医疗

新能源/锂电

新能源/锂电

塑胶/包装/印染

塑胶/包装/印染

3C电子元件等离子清洗应用

用于手机天线、摄像头、连接器、电感、中框、触摸屏、扬声器等元件等离子清洁活化,提升粘接、涂层与焊接可靠性,降低失效风险,提高3C电子元件良率。

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5G/6G光通讯等离子清洗应用

用于光模块、光纤、硅光芯片、光收发器及波导等器件清洁,去除污染物,提升粘接与焊接键合力,降低损耗,提高5G/6G光通讯行业产品良率与可靠性。

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FPC/PCB等离子清洗应用

用于等离子表面清洗微尘与氧化物去除,增强附着力;提升钻孔除胶渣、孔壁蚀刻、覆盖膜贴合、PTFE基材活化及后续粘接、焊接、电镀、印刷、三防漆、涂覆等工艺的质量与可靠性。

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LED/Mini LED等离子清洗应用

用于支架、固晶、焊线、荧光粉涂覆及封装前清洁活化,提升粘接力与键合强度,减少气泡,改善Mini LED巨量转移良率,提高LED整体可靠性。

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半导体微电子等离子清洗应用

用于晶圆表面污染物去除、光刻胶剥离、焊盘清洁、引线框架清洗及基板活化,提升键合附着力与封装可靠性,支持晶圆级封装及MEMS制程,提高半导体良品率。

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纺织/新材料等离子清洗应用

用于纤维表面改性、涂层/印花粘接,碳纤维/芳纶/玻璃纤维/PBO活化,增强复合材料力学性能;实现非织造布功能化整理及PTFE膜等材料的亲水/疏水调控。

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航天军工等离子清洗应用

用于航天军工隐身涂层、电连接器、复合材料、雷达罩及导弹舱体表面活化处理,提升附着力与粘接可靠性,保障极端环境下装备性能与耐久性。

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汽车智能制造等离子清洗应用

用于传感器、ECU、电池模组、传感器、车灯及内饰件涂胶、极片焊接前表面活化、塑料涂装,提升附着力与可靠性,提升整车质量品控。

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生物医疗等离子清洗应用

用于植入物、手术器械、微流控芯片、体外诊断器件、导管及培养皿的表面清洁与亲水改性,提升细胞粘附与生物相容性,活化组织工程支架与药物释放涂层,保障医疗器件性能。

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新能源锂电等离子清洗应用

用于锂电极片活化、隔膜改性、极耳清洁及电池壳体预处理,以及光伏电池片清洗、制绒前处理、钝化层清洁,提升电池效率、组件可靠性与制程一致性。

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塑胶包装印染等离子清洗应用

用于塑胶件去脱模剂、粘接/涂装前活化,提升附着力;包装薄膜表面改性,改善覆膜、烫印及密封性能;印染前处理提高染料润湿性,印刷喷码预处理,环保替代底涂工艺。

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等离子清洗应用领域


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关于我们


深圳市研成工业技术股份有限公司成立于2013年,是集研发、生产、销售于一体的国家级高新技术企业,专注于等离子表面处理设备。公司拥有26项专利,产品涵盖真空等离子清洗机、大气等离子清洗机、宽幅等离子清洗机、微波等离子清洗机、等离子去胶机、等离子刻蚀机等,广泛应用于泛半导体、汽车电子、6C数码通讯、新能源、塑胶印刷、医疗、光学器件、材料等领域。公司拥有自己专业的售后服务团队,能快速响应客户的个性化需求,以及快速解决客户使用过程中的困难与痛点,为客户提供强有力的保障。

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专注于等离子表面处理设备,荣获100多项专利证书

等离子清洗机软件系统
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ISO质量管理体系
一种等离子清洗机
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15+年深研 · 国家级专精特新“小巨人”

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