摘要
OLED金属密封盖氧化层降低封装胶润湿。研洁真空等离子清洗设备温和还原氧化层并活化表面，水汽阻隔等级提升。
行业痛点
OLED器件对水汽敏感，金属密封盖经高温烘烤后氧化层增厚，封装胶润湿不足，固化后形成微通道，水汽渗透率升高，像素黑斑提前出现。
技术方案
研洁真空等离子清洗设备在贴盖前配置氩氢混合等离子体，温和还原氧化层，再切换氧等离子植入羟基，使封装胶润湿更充分，固化后形成致密阻隔层。
处理工艺
处理温度低，保护盖体镀层；功率与气体比例可按盖体材质调节；真空环境确保深腔内部均匀处理。
应用效果
水汽渗透率显著下降；高温高湿试验后无黑斑；封装良率提升；取消酸洗，环保与安全性同步改善。
总结提升
研洁等离子方案为OLED封装提供高洁净、高阻隔的前处理，助力柔性显示实现长寿命、高可靠。
